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真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（pvd）技术和化学气相沉积（cvd）技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高---性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。

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该设备是至成镀膜机厂家真空针对数码光电行业视窗镜片及壳料加工推出的新型真空镀膜设备，目标对准行业当前---机屏幕视窗盖板、镜头视窗镜片、壳体及五金件的真空涂层性能更高要求的解决方案：

性能和产率：提高af(防指印或称as防污染)真空膜层的性能，并通过提高设备产率和稳定性、降低材料消耗来大幅降低成本。

适用性：除手机、平板电脑、车载显示器等触控产品外，也适用于在其他数码产品、电器、卫浴等塑胶和金属件的装饰和功能薄膜上加镀af、as涂层，提高光滑度、易清洁性。