影响离子镀膜层的工艺参数
基片偏压.
离子镀膜基片施加负偏压后；各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面．基片负偏压的提高，会使基片表面获得更高的能量，可能形成伪扩散层，提高膜层与基体的附着力，还可以改变膜层的组织、结构和性能，如细化晶粒，图2表明，随着基片负偏压的提高，膜层组织变细，但是，基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响，如反溅射作用的增加，使膜层表面受到刻蚀，使表面光洁程度降低，图3表明了空心阴极离子镀铬时，基片负偏压对铬膜表面光泽度的影响，基片负偏压的提高还会使沉积速率降低，使基片温度升高，图4表明了电弧离子镀tin膜基片负偏压对沉积速率的影响，因此，应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。
镀膜真空度和反应气体分压.
离子镀膜真空度对膜层组织、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似，但反应气体分压对反应离子镀镀制化合物膜的成分、结构和性能有直接的影响，图5是hcd离子镀tin膜的硬度与氮气分压的关系，因此反应气体的分压应根据离子镀方法，化合物膜层的成分、性质、使用要求以及设备来选择
基片温度.
离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的组织、结构和性能。一般情况下，温度的升高有利于提高膜层与基片的附着力，有利于---膜层的组织与性能。但是，温度过高，则会使沉积速率降低，有时还会使膜层晶粒粗大，性能变坏；图6中hcd离子镀铬膜显微硬度受基片温度影响的规律。另外，基片温度的选择还要受基片材料性质的---，如钢材的回火温度等
蒸发源功率．
蒸发源功率对蒸发速率有直接的影响，进而影响沉积速率，影响膜层的组织、性能，对反应沉积化合膜时蒸发源功率也将影响膜层的成分。
为了获得所需性能的膜层，应综合分析、考虑各种因素，迭择镀膜方法和确定合理的镀膜工艺参数。
精密光学真空镀膜设备在保养的时候有哪些保养方面的措施，下面的内容中我们就来了解。
一、定期更换扩散泵油：真空镀膜机扩散泵油使用一段时间，约二个月两班：，因在长期高温环境，虽然较高真空时才启动扩散泵，但仍残留氧气及其它成份使之与扩散泵油起反应，扩散泵油在高温下也可能产生裂解，使其品质下降，而延长抽气时间。在我们认为时间延长得太多时，---更换。
二、真空泵：真空镀膜机机械泵油、维持泵油在使用二个月，油质会发生变化。因油可能抽入水分、杂质及其它原因，而使用油粘性变差，真空下降，故需要更换。如为新设备，在使用头半个月即应更换，因在磨合期，油含磨合铁粉较多，会加剧磨损。
三、清洁卫生：定期将真空镀膜设备及其周围环境卫生搞好，常保持设备内外清洁，将真空镀膜设备周围环境整理有条，有一个好的工作环境，以保安全。
东莞市至成真空科技有限公司从事各种真空镀膜设备制造，致力于研发和生产真空镀膜机，为行业客户提供定制化的工艺解决方案和镀膜设备。
dlc真空镀膜设备的分类与应用
金刚石膜(dlc)真空镀膜设备是在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的---设备，dlc真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密，我们日常生活中都离不开dlc真空镀膜设备。
金刚石膜(dlc)真空镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。
经至成真空科技---多年---研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，开发出整套propower系列计算机自动控制系统，使镀膜层附着有力致密、从复度一致性好等特点；
解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制tin、ticn、crn、tialn、tinbn、ticrn、tinc等。
dlc镀膜设备技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。dlc镀膜设备技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
dlc镀膜设备是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，蒸发dlc镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置，蒸发dlc镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。
金刚石膜(dlc)真空镀膜设备应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
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