真空镀膜机镀膜的塑料材料如何挑选
真空镀膜机技术的不断发展，使很多原来不能镀膜的材料也得以实现镀膜，但仍有一部分材料并未研发出解决方案，但我非常期待，因为科技是无穷的，很多以前不敢---的技术，现在都实现了，将来必须会出现新的一页。
对于真空镀膜机的技术，塑料也是可以镀膜的了，这是一种技术性的发展，但不是所有的塑料都可以用真空镀膜机进行镀膜的，因为塑料本身所带有的某些特性是目前的镀膜技术仍未可解决的。
那么什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢，归纳起来，可以分三点来挑选。
首先，塑料本身和所镀膜层之间要有一定的亲和力，只有膜层与工件紧密的结合在一起，才能不易脱落，---久，有些塑料没办法和腊层---的结合在一起，研究人员发现在塑料表面先涂上一层便于膜层紧密结合的涂料，这样就解决了附着力的问题，但这种涂料在与膜层能加强结合外，现时也要和塑料加强结合，同时满足这两种条件的涂料也不是说那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相应的涂料，但有部分塑料始终还未找到，而这些塑料就不能用真空镀膜机镀膜了。
其次，塑料本身---含有一些挥发性的杂质，随着温度的上涨，会挥发逸出，但作为可以镀膜的工件，所能忍受的挥发物质是有限的，所以在挑选塑料材料作真空镀膜时，要选择放气量少的，这样对于真空镀膜机运作时的真空度影响也可以采取措施使其受到控制，如果大量的话就会控制不到而使真空度下降，影响镀膜。
---就是塑料受热的稳定性，塑料受到广泛使用就是因为其可以在加温的状态下按照设计者的意愿塑造出想要的形象，这就是受热变形，但在真空镀膜机的镀膜时的环境下，必定产生一定的温度，
如果塑料受热不稳定就会变形，即使镀的膜层再好，工件已经变形，又有什么用呢，所以对于塑料材料的镀膜，都会使用产生的热量低于工件熔点的真空镀膜机，但有些塑料熔点实在在低的，目前的技术仍未解决，所以这些塑料都不适合真空镀膜机的镀膜。
磁控溅射法定义是什么？
磁控溅射法是在高真空充入适量的ar气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百k直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使ar气发生电离。ar离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。
离子溅射镀膜机
多靶离子束溅射镀膜机系统在光学薄膜沉积应用中处于较高---。多靶离子束溅射镀膜机是当今仅存的在同一系统可互换使用行星型，简单旋转型或可翻转型基片装置的系统。
在通信应用上，能用于沉积高产值的200，100和50ghz具有窄通带,宽截止频带,高隔离度,低插损特性的dwdm滤波器，满足为严格的性能指标。在其它光学应用上，多靶离子束溅射镀膜机能用于沉积增透膜，复杂的非四分之---长膜层，以及吸收和散射低于百万分位的---损耗激光镜。
真空镀膜机分类
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、mbe分子束外延镀膜机和pld激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
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