舟山pvd中频离子镀膜机---

真空镀膜机pvd涂层技术有哪些优点

真空镀膜机pvd涂层技术适用于各种加工要求和工件材料的高速钢和硬质合金工具，那么它有哪些优点和特点呢？下面至成小编为大家详细介绍一下：

（1）pvd膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应---行化学电镀铬，然后才适合镀pvd，但是水镀后做pvd容易起泡，---率较高；

（2）典型的pvd涂层加工温度在250℃~450℃之间；

（3）涂层种类和厚度决定工艺时间，一般工艺时间为3~6小时；

（4）pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工；

（5）pvd技术不仅提高了镀膜与基体材料的结合强度，涂层成分也由tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元复合涂层，形成不同的颜色的表面效果。

（6）目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量，使颜色得以量化，以确定所镀出的颜色是否满足要求。

新型磁控溅射真空镀膜机镀膜工艺

磁控溅射真空镀膜机镀膜工艺在镀膜行业无处不在，只要说到镀膜技术，大家都会---想到磁控镀膜工艺，磁控溅射真空镀膜机也受到了各大厂家的---，磁控溅射镀膜工艺更是受到大家的喜爱，今天至成小编为大家介绍一下磁控溅射镀膜机镀膜工艺。

其实从一般的金属靶材溅射、反应溅射、偏压溅射等,伴随着工业需求及新型磁控溅射技术的出现,低压溅射、高速沉积、自支撑溅射沉积、多重表面工程以及脉冲溅射等新型工艺成为目前该领域的发展趋势。低压溅射的关键问题是在低压(一般是指<011pa)下,电子与气体原子的碰撞几率降低,在常规磁控溅射技术中不---维持靶材表面的辉光放电,导致溅射沉积无法继续进行。通过优化磁场设计,使得电子空间运动距离延长,非平衡磁控溅射技术可以实现在10-2pa等级的真空下进行溅射沉积。另外,通过外加电磁场约束电子运动可以实现---压强下的溅射沉积。进行高速沉积可以---的提高工作效率、减少工作气体消耗以及获得新型膜层。实现高速沉积主要需要解决的问题是在提高靶材电流密度的同时,不会产生弧光放电;由于功率密度的提高,靶材、衬底的冷却能力需要相应提---。目前,已经实现了靶材功率密度超过100w/cm2,沉积速率超过1μm/min。