真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
真空镀膜设备检漏环节,你都会了吗?
---公司---,前期都要进行严格的真空镀膜设备捡漏培训,后期还要经过公司传帮带的方式来帮助新人快速成长,为什么公司对捡漏培训如此重视和严格,下面小编为大家讲解真空镀膜设备捡漏的重要性:真空镀膜设备检漏是---真空镀膜设备真空度的一项检查措施,简称检漏,真空度的高低是直接影响到镀膜效果的,如果捡漏有纰漏,必然会造成或大或小的损失,由此得不偿失,所以机器在运作过程中检漏环节是必不可少的。经验丰富的---都知道,捡漏产生的原因一般都是真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的连接位细缝中产生,当抽气系统抽气后使真空室内压强下降,外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内,造成真空度下降。
真空镀膜机夏季使用及保养事项1、经常检查油质情况,发现真空泵油乳化及变质应及时更换真空油,---真空泵工作正常。2、真空泵换真空油的期限,按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑,由用户酌情决定。一般新真空泵,抽除清洁干燥的气体时,建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后,以后可适当延长更换真空油期限。3、严禁换用其他种类的油。一定要用---真空油。经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。以旋片真空泵运转时,油位到油标中心为准。4、一般情况下,真空泵工作2000小时后应进行检修,检查橡胶密封件老化程度,检查排气阀片是否开裂,清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个真空泵腔内的零件,如转子、旋片、弹簧等。一般用清洗,并烘干。对橡胶件类配件清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放,小心碰伤。
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