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磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，---是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子---在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。

什么是光学镀膜：

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

光学镀膜原理：真空镀膜真空镀膜：真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等多种涂料，所以。蒸发和溅射有两种主要类型。将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或药材。衬底处于与靶相同的真空中。

蒸发涂层通常是加热目标，以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发，并通过成膜方法（散射岛结构-梯形结构-层状生长）沉积在基材的表面上，薄膜。

对于溅射状涂层，很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的，表面组分以自由基或离子的形式溅射，后沉积在基底表面上终形成一部薄膜。

常见的光学镀膜材料有以下几种：

1、二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

2、氧化锆材料特点白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高氧化锆镀膜，不出崩点。