光学镀膜机的镀膜工艺原理
光学镀膜工艺，已经普及到各行各业，光学薄膜在我们的生活中无处不在，更是被大众高度---，据统计目前光学镀膜机材料常用品种已达60余种，而且其品种、应用功能还在不断被开发。光学镀膜工艺直接影响这大家的生活习惯，已是人们生活中不可或缺的一部分。
从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用广泛，和生活息息相关，比喻平时戴的眼镜、各式家电用品，数码相机，或者是上的防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工，干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
真空电镀和水电镀的区别1、简单来说，真空电镀不过油，其附着力很差，无法过百格test，而水电镀的明显好于真空电镀！因此，为---真空电镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些。2、水电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就---为力了。而真空电镀可以解决七彩色的问题。3、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非材料。对于“六价铬”有如下的要求：欧盟：76/769/eec：禁止使用；94/62/ec：<100ppm；rohs：<1000ppm如此严格的要求，国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”；而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合要求。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些
由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（b）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度b，因为水平磁场强度b要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。
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