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中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术介绍

很多人不知道，磁控溅射真空镀膜机镀膜技术也分类型的，镀的产品不一样，使用的磁控溅射技术也是有差别，今天至成真空小编为大将讲解一下中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术，希望能帮到大家。

中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难---采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入ar气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。

真空镀膜机镀膜的塑料材料如何挑选

真空镀膜机技术的不断发展，使很多原来不能镀膜的材料也得以实现镀膜，但仍有一部分材料并未研发出解决方案，但我非常期待，因为科技是无穷的，很多以前不敢---的技术，现在都实现了，将来必须会出现新的一页。

对于真空镀膜机的技术，塑料也是可以镀膜的了，这是一种技术性的发展，但不是所有的塑料都可以用真空镀膜机进行镀膜的，因为塑料本身所带有的某些特性是目前的镀膜技术仍未可解决的。

那么什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢，归纳起来，可以分三点来挑选。

首先，塑料本身和所镀膜层之间要有一定的亲和力，只有膜层与工件紧密的结合在一起，才能不易脱落，---久，有些塑料没办法和腊层---的结合在一起，研究人员发现在塑料表面先涂上一层便于膜层紧密结合的涂料，这样就解决了附着力的问题，但这种涂料在与膜层能加强结合外，现时也要和塑料加强结合，同时满足这两种条件的涂料也不是说那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相应的涂料，但有部分塑料始终还未找到，而这些塑料就不能用真空镀膜机镀膜了。

其次，塑料本身---含有一些挥发性的杂质，随着温度的上涨，会挥发逸出，但作为可以镀膜的工件，所能忍受的挥发物质是有限的，所以在挑选塑料材料作真空镀膜时，要选择放气量少的，这样对于真空镀膜机运作时的真空度影响也可以采取措施使其受到控制，如果大量的话就会控制不到而使真空度下降，影响镀膜。

---就是塑料受热的稳定性，塑料受到广泛使用就是因为其可以在加温的状态下按照设计者的意愿塑造出想要的形象，这就是受热变形，但在真空镀膜机的镀膜时的环境下，必定产生一定的温度，

如果塑料受热不稳定就会变形，即使镀的膜层再好，工件已经变形，又有什么用呢，所以对于塑料材料的镀膜，都会使用产生的热量低于工件熔点的真空镀膜机，但有些塑料熔点实在在低的，目前的技术仍未解决，所以这些塑料都不适合真空镀膜机的镀膜。