镀膜理论
镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时，波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位（180°位移）时，其叠加会导致在所有峰值的消减效应，导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和破坏性的干涉。
光的波长和入射角通常是的，折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度，并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时，在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了尽量减少反射，我们希望它们在个接口重组时，这两个反射部分具有180°的相位移。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波，它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得---实现。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些
由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（b）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度b，因为水平磁场强度b要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。
多层减反增透膜在工艺上一般有以下特点：
（1）一般在镜头的片的第二面或第二片上镀多层减反膜，以增加装饰效果。多层宽带减反增透膜以翠绿色较多，比较美观。
（2）一般在曲率半役较大的表面上镀多层膜，以便在工艺上使多层膜的膜色---均匀。
（3）一般在低折射率材料的镜片上镀膜。对单层减反膜而言，低折射率基底的减反效果不如高折射率基底的减反效果。而对多层膜而言，多层膜的设计可以在不同折射率基底的材料上实现几乎相近的减反效果。
（4）根据经验，镀膜面数在16个左右时，选用2个面镀多层膜；镀膜面数在10个左右时，选用一个面镀多层膜即可基本满足技术要求。选用多层减反膜，一般在同牌号的玻璃，或折射率接近的不同基底上实施。这样可以只设计一种多层膜膜系。更重要的是，从工艺实施上更为方便，从品质---上更为有利。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
本文链接：https://tztz297649a2.zhaoshang100.com/zhaoshang/209126358.html
关键词：
滇公网安备 53011202000392号