镀膜设备-卧式镀膜设备-至成真空科技

金属带镀膜设备

hcmrc系列采用模块化设计，是用于薄膜镀膜的灵活生产工具。通过我们各种技术的---组合，可以生产高反射膜、高吸收膜和装饰性镀膜。此外，为了更广泛的应用，我们还可以沉积防触摸膜层或者防腐膜层。

不锈钢带卷绕镀膜设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术及---设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层和防腐蚀膜层，---金属卷材表面特性，扩展应用范围。

模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积，镀膜速度快，是大型不锈钢卷连续镀膜生产线的---选择。

影响镀膜机磁控靶点火电压的因素有哪些

靶材对点火电压的影响

(1)阴极靶材的不同材质，因溅射的能量阀值的不同，一般溅射“逸出功”较小的阴极靶材，其点火电压和工作的电压要低一些，反之则会高一些。(2)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁等)和铁素体靶材，会偏转和减少阴极溅射靶面磁场对磁控靶造成影响。靶面磁场的降低，使磁控靶需要---的电压才能点火起辉。(3)点火电压与磁控靶靶材溅射面积和真空腔体的机械尺寸大小有关。靶材溅射面积大，或是真空腔体的机械尺寸大，相应充入工作气体的数量值较多，在同一阴-阳极电压下，工作气体例如气电离出导电正离子和电子亦增多，导致点火电压下降(在镀膜时还会造成磁控靶溅射电压一定程度上的降低)。

磁控溅射镀膜靶电源的空载电压

(1)靶电源输出的空载电压主要供磁控靶“点火起辉”用，其峰值电压大体可分为三挡，即：800v-1kv-1.2(或1.3)kv左右。(2)大约在5kw以下的靶电源输出空载电压的峰-峰值vp-p一般在1~1.3kv左右;5kw以上的靶电源其输出的空载电压的峰-峰值vp-p大约在800~1kv;且电源功率越大,其输出的空载电压越接近偏小值。(3)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁)以及其它铁素体靶材，在选用靶电源输出的空载电压时，须选择靶电源输出空载电压峰-峰值vp-p范围的偏大数值。